其實，作為一種氮化材料，氮化錳可應(yīng)用在不同的領(lǐng)域中。由于錳、氮的各種作用，在煉制鋼、不銹鋼、耐熱鋼時需要同時加人錳、氮元素。以單質(zhì)形式加入錳、氮兩種元素時，存在如氮的溶解度低、密度小、不易加入及氮的添加量不易控制等缺點。然而，以氮錳化合物形式加入時，不但易于加入，并且錳、氮的利用率也高。

      為了能夠加深大家對氮化錳的了解，掌握更多關(guān)于氮化錳的應(yīng)用范圍，將向大家簡單的講一下氮化錳薄膜的制作方法。傳統(tǒng)的Mn基阻擋層主要通過PVD共沉積CuMn復(fù)合材料，然后使用熱退火處理，使Mn擴(kuò)散介質(zhì)表面來實現(xiàn)。但是，在退火過程中，Cu與low-k（比如SiCOH）介質(zhì)直接接觸，將會導(dǎo)致Cu在介質(zhì)材料中擴(kuò)散；而且形成的MnSixOy薄膜導(dǎo)電性較差，一般為絕緣體，會導(dǎo)致RC延遲增加。

      以脈沖的方式向反應(yīng)腔中通入Mn（EtCp）2蒸氣，使之與襯底表面的Si-H或Si-OH 活性基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)（Mn（EtCp）2中某一個化學(xué)鍵斷裂與襯底表面的懸掛鍵成鍵），在襯底上形成密集且均勻且密集吸附的Mn（EtCp）2層；通入吹洗用氣體，以將反應(yīng)腔中多余的Mn（EtCp）2蒸氣以及氣態(tài)的反應(yīng)副產(chǎn)物 吹洗干凈；以脈沖的方式向反應(yīng)腔中通入NH3氣體，同時開啟等離子體發(fā)生器使其電離產(chǎn) 生NH3等離子體，并與吸附于襯底表面的Mn（EtCp）2發(fā)生化學(xué)反應(yīng)（NH3等離子體將與Mn連接 的苯環(huán)鍵打斷，并與Mn成鍵）。通入吹洗用氣體，以將反應(yīng)腔中多余的NH3等離子體以及反應(yīng)副產(chǎn)物吹洗干凈，獲得氮化錳薄膜。
      通過以上方法制成的氮化錳薄膜具有很多優(yōu)點，如制作工藝簡單，無需后退火，可直接在介質(zhì)上形成MnxNy阻擋層薄膜。氮化錳薄膜具有很好的均勻性和表面平整度，較低的電阻率。希望大家可以通過這些信息，進(jìn)一步增加對氮化錳薄膜的了解。同時，也能間接的了解到，氮化錳的應(yīng)用范圍